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域外法治

三星公司被判向苹果公司支付巨额专利侵权赔偿持续发酵域外法治

时间:2016-01-28   出处:中国知识产权报/国家知识产权战略网  作者:  点击:
苹果公司与三星公司之间的恩怨由来已久,而双方每次爆发的专利战也从来都不缺少话题。不久前,因侵犯苹果公司外观设计专利权,三星公司被美国联邦上诉法院裁定,要求其因侵犯智能手机专利向苹果公司支付侵权赔偿费。由于对判赔数额不满,三星公司向美国最高法院请求提卷阅审,重新计算赔偿金。

就在这件事悬而未决之际,谷歌、惠普、戴尔等科技巨头日前集体声援三星公司,向美国最高法院递交“法庭之友”辩论状,力挺三星,并呼吁美国最高法院重新审理此案,希望利用这一案件,推动美国联邦政府进行专利法改革,有效杜绝和预防“专利流氓”通过这一途径发起恶意诉讼。

美国飞翰律师事务所驻上海代表处律师朱韶斌表示,美国法院对三星公司外观设计专利侵权赔偿的裁决,并不是对延续一百多年现行法律的改变,而是对现行法律的忠实适用。之所以引起多方关注只是因其侵权产品的数量大、利润高、赔偿金额巨大。该案再次提醒企业要加强对外观设计专利侵权风险的评估、管控和对外观设计专利的保护。

三星请求赢得多方支持

事实上,苹果公司与三星公司之间的专利纠纷之所以能在美国科技巨头中产生如此大的震动是有原因的。其受关注的焦点不在于涉嫌侵权的专利本身,而在于美国最高法院对类似案件的判决有可能抑制美国的创新和产业发展,甚至改变不少美国科技公司的命运。

据了解,按照美国联邦上诉法院此前作出的判决,三星公司因为侵犯苹果的外观设计专利权,必须参照侵权智能手机的总利润向苹果支付侵权赔偿金。三星公司却认为,即使被判侵权的部分仅占三星电子手机价值的1%,苹果公司却得到了三星公司100%的利润,此判决有失公允。

记者梳理发现,在这些力挺三星公司的“盟友”中,大多数公司都担心一旦该判决生效,将严重阻碍美国创新和产业发展。硅谷许多大科技公司认为,美国巡回法庭的裁决可能对新产品的引入产生破坏性影响,因为科技公司面临的法律挑战正在加剧。美国乔治敦大学法学教授丽贝卡·图什尼特在递交的“法庭之友”辩论状中称,由于损害赔偿与专利价值之间存在潜在的巨大差异,其会对专利制度和创新造成重大伤害。

“美国法院每年裁决的外观设计专利侵权案很多,此案之所以受到业界广泛关注,并得到许多科技巨头的支持,一方面由于法院判赔金额较高,使得一些同技术领域的科技公司不得不重新审视和重视对外观设计专利的保护,避免今后遭遇类似判决;另一方面这些科技公司也希望通过游说,要求美国国会考虑通过新的立法修改相关法律,以适应当下的产业发展环境。”美国美科律师事务所创始人梅雷在接受本报记者采访时表示。

加大外观设计保护力度

那么,此次三星公司的请求是否会得到美国最高法院的支持?在业内人士看来,三星公司的胜算很小。

“在赔偿金问题上,联邦巡回上诉法院已经认为,赔偿条款的表述清晰,不允许采取三星公司所提出的限制赔偿金额的提议,任何对法律的修改必须由美国国会来完成。对于三星公司提出的重新计算赔偿金的要求,很难得到美国最高法院的支持。但是,如果美国最高法院对关于计算赔偿金额法律有不同的解释,那么在重新计算赔偿金的时候,此案将被最终返回到地区法院来适用美国最高法院解释后的法律。”美国飞翰律师事务所律师伊丽莎白·费里尔在接受本报记者采访时认为,如果美国最高法院最终驳回了三星公司的诉求,那么这将是历时5年的苹果诉三星案的终结。未来,三星公司可能会进一步游说美国国会,要求撤销或修改外观设计专利赔偿条款,但同时也有可能会遭到其他外观设计专利持有人的反对。

按照目前的美国法律,外观设计专利侵权的赔偿金额一般要远高于发明专利的赔偿。对于中国手机厂商而言,在发明专利的数量和质量上已经略逊于国外公司,因此更要加大在美国提交外观设计专利申请的力度。

“苹果诉三星案,对中国企业的触动可能会比较大。在中国,目前法院裁决的外观设计专利侵权的赔偿额度还较低,这不利于遏制“山寨”、抄袭行为,不利于企业的创新。中国企业进入美国市场,需要了解美国知识产权法律,增强知识产权风险意识。”朱韶斌在接受本报记者采访时表示,如果中国企业在进入美国市场时,认为某件外观设计专利对自己的产品造成威胁,可以通过一些措施,避免或降低侵权风险。例如,规避设计,避免抄袭他人产品;请美国专利律师进行专利分析、出具不侵权法律意见,以避免企业被裁定故意侵权;与专利权人谈判,取得许可等。(本报记者  王 康)

中国知识产权司法保护网(知产法网)主编


蒋志培 中国人民大学法学博士,曾在英国伯明翰大学法学院、美国约翰马歇尔法学院任高级访问学者,中国人民大学法学院、北京外国语大学法学院兼职教授,中国知识产权司法保护网主编、国家社科基金评审委员会专家,最高人民检察院民行诉讼监督案件专家委员会委员,2014年、2015年受美国约翰马歇尔法学院、中国驻加拿大使馆和加方科技部邀请参加知识产权法律和创新论坛并演讲,2013年12月获得中国版权事业卓越成就奖。